Kineski startap Langdao Silex predstavio je prototip svetlosnog izvora za ekstremnu ultraljubičastu litografiju, tehnologiju ključnu za proizvodnju najnaprednijih procesora. Kompanija navodi da sistem postiže izlaznu snagu veću od 15 W i da je oko 90 odsto njegovih komponenti nabavljeno ili razvijeno u Kini.
Prototip FlintNano LPP-OXXO izložen je na Kineskom međunarodnom industrijskom sajmu u Šangaju, ali nije prikazan u aktivnom radu. Langdao Silex je osnovan 2024. godine od bivših članova Laboratorije za gasnu plazmu Univerziteta Cinghua.
Sistem koristi tehnologiju plazme stvorene laserom. U takvom procesu, laserski impulsi udaraju u sitne zagrejane metalne kapljice i stvaraju izuzetno vrelu plazmu, koja zatim emituje EUV zračenje. Prema specifikacijama kompanije, izvor ima pogonski laser od 1.000 W, radi u opsegu od 1 do 20 kHz i postiže efikasnost konverzije veću od 2 odsto.
Langdao Silex tvrdi da prototip može neprekidno da radi više od 100 sati, uz stabilnost plazme od 3 odsto RMS i stabilnost EUV snage od 5 odsto. Takve karakteristike mogle bi biti dovoljne za eksperimente izlaganja poluprovodničkih materijala, razvoj fotorezista i istraživanje optike za EUV sisteme.
Ipak, objavljenih 15 W ne može se direktno uporediti sa podacima za komercijalne EUV mašine. Kompanija nije objavila gde je tačno izmerena snaga. Ukoliko se brojka odnosi na zračenje stvoreno u plazmi, a ne na energiju dostupnu posle kolektora i u međufokusnoj tački, praktično upotrebljiva snaga bila bi znatno niža.
Za masovnu proizvodnju, savremeni EUV sistemi koriste daleko snažnije izvore. Pored samog izvora, kompletan EUV skener zahteva i precizna višeslojna ogledala, sisteme za prikupljanje i usmeravanje svetlosti, mehanizme za pozicioniranje wafer-a i retikala, kao i izuzetno preciznu integraciju.
Kompanija procenjuje da će joj biti potrebno još tri do pet godina za komercijalizaciju tehnologije. U međuvremenu razvija i snažniji izvor FlintMicro-LPP, ali bez objavljenih podataka o njegovoj snazi, efikasnosti ili radnom veku.